Study on photoelectricity properties of SiCN thin films prepared by magnetron sputtering
发布时间：2023-08-22 点击次数：
影响因子：6.4
DOI码：10.1016/j.jmrt.2021.08.043
所属单位：西北大学；荷语布鲁塞尔自由大学（VUB）；欧洲微电子中心（IMEC）
发表刊物：Journal of Materials Research and Technology
刊物所在地：荷兰
关键字：SiCN；Thin films；Photoelectric properties；Magnetron sputtering
备注：共同第一作者，SCI检索，中科院一区，TOP期刊。
论文类型：期刊论文
论文编号：10.1016/j.jmrt.2021.08.043
学科门类：工学
一级学科：电子科学与技术
文献类型：J
卷号：15
页面范围：460-467
字数：6999
是否译文：否
发表时间：2021-12-01
收录刊物：SCI
发布期刊链接：https://doi.org/10.1016/j.jmrt.2021.08.043
第一作者：Qiang Li
第一作者：Cheng Chen
通讯作者：Wu Zhao
合写作者：Mingge Wang
合写作者：Yaohui Lv
合写作者：Yulu Mao
合写作者：Manzhang Xu
合写作者：Yingnan Wang
合写作者：Xuewen Wang
合写作者：Zhiyong Zhang
合写作者：Shouguo Wang
合写作者：Johan Stiens