影响因子：6.7

DOI码：10.1016/j.apsusc.2021.149121

所属单位：西北大学；荷语布鲁塞尔自由大学（VUB）；欧洲微电子中心（IMEC）

发表刊物：Applied Surface Science

刊物所在地：荷兰

关键字：SiCN film；Annealing；Microstructure；Photoluminescence；Sputtering；Optoelectronics

备注：第一作者，SCI检索，中科院一区，TOP期刊。

论文类型：期刊论文

论文编号：10.1016/j.apsusc.2021.149121

学科门类：工学

一级学科：电子科学与技术

文献类型：J

卷号：546

页面范围：149121-149126

字数：6666

是否译文：否

发表时间：2021-04-30

收录刊物：SCI

发布期刊链接：https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149121

第一作者：Qiang Li

第一作者：Cheng Chen

通讯作者：Wu Zhao

合写作者：Manzhang Xu

合写作者：Yingnan Wang

合写作者：Xuewen Wang

合写作者：Zhiyong Zhang

合写作者：Johan Stiens