NIR-to-NIR Deep Penetrating Nanoplatforms Y2O3:Nd3+/Yb3+@SiO2@Cu2S towards Highly Efficient Photothermal Ablation
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所属单位：光子学与光子技术研究所
发表刊物：ACS Applied Materials & Interfaces
刊物所在地：国外学术期刊
论文类型：期刊论文
论文编号：5b75928c66e36bee0167350bc31f3f51
页面范围：10（17）：14570-14576
ISSN号：1944-8244
是否译文：否
发表时间：2018-04-11
第一作者：郭崇峰