Study on photoelectricity properties of SiCN thin films prepared by magnetron sputtering
- 影响因子：6.4
- DOI码：10.1016/j.jmrt.2021.08.043
- 所属单位：西北大学；荷语布鲁塞尔自由大学（VUB）；欧洲微电子中心（IMEC）
- 发表刊物：Journal of Materials Research and Technology
- 刊物所在地：荷兰
- 关键字：SiCN；Thin films；Photoelectric properties；Magnetron sputtering
- 备注：共同第一作者，SCI检索，中科院一区，TOP期刊。
- 论文类型：期刊论文
- 论文编号：10.1016/j.jmrt.2021.08.043
- 学科门类：工学
- 一级学科：电子科学与技术
- 文献类型：J
- 卷号：15
- 页面范围：460-467
- 字数：6999
- 是否译文：否
- 发表时间：2021-12-01
- 收录刊物：SCI
- 发布期刊链接：https://doi.org/10.1016/j.jmrt.2021.08.043
- 第一作者：Qiang Li
- 第一作者：Cheng Chen
- 通讯作者：Wu Zhao
- 合写作者：Mingge Wang
- 合写作者：Yaohui Lv
- 合写作者：Yulu Mao
- 合写作者：Manzhang Xu
- 合写作者：Yingnan Wang
- 合写作者：Xuewen Wang
- 合写作者：Zhiyong Zhang
- 合写作者：Shouguo Wang
- 合写作者：Johan Stiens
附件：
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