专利

基于双网格的有限投影的荧光分子断层成像重建方法

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所属单位:信息科学与技术学院(软件学院)

专利范围:国内

学校署名:第一单位

备注:本发明公开了一种基于双网格策略的有限投影角度的荧光分子断层成像重建方法,其实现步骤如下:(1)获取测量数据;(2)粗网格重建,并为细网格重建提供荧光目标的可行区域;(3)可行区域下的细网格重建,实现荧光目标的三维分布。本发明基于光传输理论与有限元方法,利用了光学特性参数和解剖结构等先验信息,采用单点激发,有限角度测量,利用双网格策略,将粗网格的重建结果为细网格重建提供荧光目标可行区域,由此降低了问题的病态性,有效提高了荧光分子断层成像的重建结果,在光学断层三维重建算法等领域有重要的应用价值。

专利类型:发明专利

申请号:CN201510787814.9

是否职务专利:

申请日期:2015-11-17

公开日期:2016-04-06

第一作者:易黄建